科研成果
科研简介
获奖
论文
专著
专利
科研动态
您现在的位置:首页 > 科研成果 > 论文
论文库
论文编号: 0257-8972
第一作者所在部门:
论文题目: Growth of large-scale heteroepitaxial 3C-SiC films and nanosheets on silicon substrates by microwave plasma enhanced CVD at higher powers
作者: Wang C, Huang N, Zhuang H, Zhai Z F,Yang B, Liu L S, Jiang X
论文出处(相关负责人):
刊物名称: Surface & Coatings Technology
年: 2016
卷: 299
期:
页码: 96-103
联系作者: Jiang X
收录类别: SCI
影响因子: 2.14
摘要:
英文摘要:
外单位作者单位:
备注:
   

关闭窗口